2014年9月23日，上海市高级人民法院就“钜锐案”——上海首例集成电路布图设计纠纷案作出终审判决，驳回上诉人钜泉光电科技（上海）股份有限公司、深圳市锐能微科技有限公司的上诉请求，维持原判。根据原判，锐能微公司应立即停止侵害钜泉公司享有的ATT7021AU集成电路布图设计专有权，并赔偿钜泉公司经济损失等共320万元。

点评：华东政法大学教授 王 迁

　　制造集成电路的前提是进行集成电路布图设计，由它决定如何在半导体材料的三维空间中配置各种元件及互连线路。布图设计的成本往往非常高昂，需要投入大量的智力劳动，但在含有集成电路的产品售出后，他人通过拆解产品了解布图设计并加以抄袭却相对容易。鉴于此，TRIPS协定和我国《集成电路布图设计保护条例》均对独创性的布图设计提供保护，禁止未经许可复制该布图设计。

　　在此案中，法院正确地做出了两个区分。首先是区分了认定侵犯布图设计权的标准与认定侵犯著作权的标准。对于后者，被控侵权作品必须与原作在表达上构成实质性相似，仅复制个别独创性的表达尚不足以认定侵权。但对于前者，复制受保护的布图设计中任何具有独创性的部分都可构成侵权。这不仅是因为立法对此有明确规定，还因为布图设计与文学艺术作品不同，其设计具有实用功能性，各设计点相互依存，牵一发而动全身，任何独创性的设计点都值得保护。因此，法院认定被告对原告两个独创设计点的复制足以构成侵权。其次是区分了布图设计与实现布图设计的工艺。布图设计是对元件和其互连线路的三维配置，对于相同的配置可以通过多种工艺实现。这正如原告在一块瓷砖上绘制了水彩画，被告在四块瓷砖上用碳素笔加以临摹，再现的仍然是同一美术作品。法院据此指出：四个电容呈田字型的排列方式是三维配置，而用几个阱放置电容则是工艺，也即实现布图设计的方式，本身不是布图设计，并认定被告复制了原告的布图设计。

　　法院对上述难点问题的认定，不仅体现了对法律的精准理解，也澄清了判断布图设计侵权的法律标准，使布图设计者了解了合理借鉴与抄袭在先设计之间的界限，这对于合理地保护布图设计、促进集成电路产业的发展具有重要的现实意义。